指定填充阵列设置
指定完“填充”阵列之后,可以设置某些选项来影响生成的几何的显示方式。
使用替代原件
为填充阵列指定的缺省原点是阵列导引中心。以此位置作为依据创建生成的阵列成员。可以使用“使用替代原件”(Use alternate origin) 选项来指定替代原点位置。选择替代原点可让系统重新计算阵列成员排列,就像阵列导引位于新指定的原点一样。请注意,阵列导引实际并未重定位至新指定的原点;相反,在另一排列中仍存在阵列,但系统将阵列放置调整为位于阵列导引中心。可以选择下列任何一项作为替代原点:
• 基准点
• 坐标系
• 顶点
• 草绘曲线的末端
只能选择在阵列导引之前创建的特征作为替代原点。
跟随引线位置
启用“跟随引线位置”(Follow leader location) 时,系统会将阵列成员从填充曲线的草绘平面随引线偏移相同的距离。禁用该选项时,系统会围绕填充曲线草绘平面将阵列成员置于中心位置。
跟随曲面形状
可通过启用“跟随曲面形状”(Follow surface shape) 选项将阵列成员配置为跟随曲面轮廓。在图 2 的图像中,阵列成员相对于指定的曲面形状向上向下移动。
然后,可根据需要将实例方向控制为跟随曲面方向。启用“跟随曲面方向”(Follow surface direction) 选项可确保将每个阵列成员定向为跟随该曲面,如图 2 中的左图所示。禁用“跟随曲面方向”(Follow surface direction) 选项可确保所有阵列成员在选定曲面上具有恒定方向,但仍将根据曲面的形状重定位。所有成员的方向都与阵列导引相同,如图 2 中的右图所示。
间距选项
使用“跟随曲面形状”(Follow surface shape) 选项时,下列“间距”(spacing) 选项可供使用:
• 按照投影
• 映射到曲面空间
• 映射到曲面 UV 空间